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本申请提供一种偏振体全息光栅、偏振体全息光栅的制备方法及曝光系统，该偏振体全息光栅包括：基底层、二维取向层及液晶层；二维取向层设置在基底层的表面，二维取向层的取向方向在第一预设方向周期性变化，以及在与第一预设方向垂直的第二预设方向周期性变化...
该专利属于珠海莫界科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海莫界科技有限公司授权不得商用。

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