偏振体全息光栅、偏振体全息光栅的制备方法及曝光系统技术方案

本申请提供一种偏振体全息光栅、偏振体全息光栅的制备方法及曝光系统，该偏振体全息光栅包括：基底层、二维取向层及液晶层；二维取向层设置在基底层的表面，二维取向层的取向方向在第一预设方向周期性变化，以及在与第一预设方向垂直的第二预设方向周期性变化，使得二维取向层形成夹角大于零的第一等相位线和第二等相位线；液晶层设置在二维取向层背离基底层的表面，液晶层中的液晶分子的排列方向与二维取向层的取向方向对应，使得液晶层形成与第一等相位线对应的第一等相位面及形成与第二等相位线对应的第二等相位面。本申请通过二维取向层取向液晶层，使偏振体全息光栅具备二维光栅的衍射特性，实现了单层二维偏振体全息光栅的制备。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光栅领域，尤其涉及一种偏振体全息光栅、偏振体全息光栅的制备方法及曝光系统。

技术介绍

1、偏振体全息光栅是一种偏振选择性全息光学元件，在近眼显示的场景中，偏振体全息光栅被设置在光波导中，以使得信号光能够通过偏振体全息光栅耦入光波导，并在光波导内传输后，通过另一个偏振体全息光栅耦出，从而实现信号光的传输。但相关技术中的偏振体全息光栅受限于制备方法，制得的偏振体全息光栅仅具备一个方向的等相位面，也即制得的偏振体全息光栅为一维的偏振体全息光栅，因而在相关技术中，若需设置二维的偏振体全息光栅，则要叠放多个一维的偏振体全息光栅，以来实现二维偏振体全息光栅的衍射效果，可见相关技术中存在二维偏振体全息光栅的制备工艺繁琐和良率低等问题，且相关技术中暂无直接制备二维偏振体全息光栅的方法。

技术实现思路

1、本申请提供一种偏振体全息光栅、偏振体全息光栅的制备方法及曝光系统，旨在提供一种具备至少两个光栅周期方向的偏振体全息光栅，实现了单层二维偏振体全息光栅的制备。

2、第一方面，本申请提供一种偏振体全息光栅，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种偏振体全息光栅，其特征在于，所述偏振体全息光栅包括：

2.如权利要求1所述的偏振体全息光栅，其特征在于，在所述二维取向层沿所述基底层方向的投影中，相同取向方向的位置点之间的连线呈锯齿形状。

3.如权利要求1所述的偏振体全息光栅，其特征在于，所述第一预设方向为预设坐标系的X轴方向，所述第二预设方向为所述预设坐标系的Y轴方向，所述预设坐标系的原点为所述基底层所在平面的任意一点。

4.如权利要求1-3任一项所述的偏振体全息光栅，其特征在于，所述基底层包括树脂或玻璃；所述二维取向层包括聚酰亚胺、有机偶氮化合物及丙烯酸酯聚合物中的一项；所述液晶层包括胆甾...

【技术特征摘要】

1.一种偏振体全息光栅，其特征在于，所述偏振体全息光栅包括：

2.如权利要求1所述的偏振体全息光栅，其特征在于，在所述二维取向层沿所述基底层方向的投影中，相同取向方向的位置点之间的连线呈锯齿形状。

3.如权利要求1所述的偏振体全息光栅，其特征在于，所述第一预设方向为预设坐标系的x轴方向，所述第二预设方向为所述预设坐标系的y轴方向，所述预设坐标系的原点为所述基底层所在平面的任意一点。

4.如权利要求1-3任一项所述的偏振体全息光栅，其特征在于，所述基底层包括树脂或玻璃；所述二维取向层包括聚酰亚胺、有机偶氮化合物及丙烯酸酯聚合物中的一项；所述液晶层包括胆甾相液晶。

5.一种偏振体全息光栅的制备方法，其特征在于，所述偏振体全息光栅的制备方法包括：

【专利技术属性】
技术研发人员：兰富洋，关健，马国庆，王兆民，
申请(专利权)人：珠海莫界科技有限公司，
类型：发明
国别省市：