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本发明提供了一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法,所述低介电常数的聚酰亚胺薄膜的制备原料包括二酐单体、二胺单体和聚环氧烷封端剂,所述聚环氧烷封端剂包括氨基封端聚环氧烷和/或酐基封端聚环氧烷,所述氨基封端聚环氧烷具有式Ⅰ所示结构,所述酐基...该专利属于宁波博雅聚力新材料科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过宁波博雅聚力新材料科技有限公司授权不得商用。
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