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本技术提供一种下电极组件及等离子体处理装置，所述下电极组件设置在一真空反应腔内，包含：基座，用于支承晶圆，所述基座与射频电源电连接；设施板，设置在基座底部；上隔离环，围绕设置在所述基座和所述设施板的外周；下隔离环，设置在所述设施板和所述上隔...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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