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本发明涉及一种制造具有抗反射性或反光性并包含具有至少一个主表面的基底的光学制品的方法，该方法包括在基底主表面上沉积底层的步骤，通过离子轰击处理底层的步骤和在所述底层上沉积包含至少一层高折射率层和和至少一层低折射率层的多层叠层的步骤。根据优选...
该专利属于埃西勒国际通用光学公司所有，仅供学习研究参考，未经过埃西勒国际通用光学公司授权不得商用。

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