本发明专利技术涉及一种制造具有抗反射性或反光性并包含具有至少一个主表面的基底的光学制品的方法，该方法包括在基底主表面上沉积底层的步骤，通过离子轰击处理底层的步骤和在所述底层上沉积包含至少一层高折射率层和和至少一层低折射率层的多层叠层的步骤。根据优选实施方案，底层的沉积在真空室中进行，其中在沉积步骤中向真空室中供应气体。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】制造涂覆有具有改进的粘附性和耐磨性的 抗反射涂层或反光涂层的光学制品的方法
本专利技术涉及一种制造包含提供有包含底层的抗反射涂层或反光涂层的 基底的光学制品的方法，所述涂层特别具有增加的耐磨性和良好的与基底 的粘附性。在眼镜光学领域中，传统上为眼用透镜提供各种涂层以赋予这些透镜 各种机械和/或光学性质。由此通常在眼用透镜上形成连续涂层，如耐沖击 涂层、耐磨涂层、抗反射和/或反光涂层。如下面所述，抗反射涂层是指已沉积在光学制品的表面上并确实改善 光学终产品的抗反射性能的涂层。这可以减少可见光谱的较大范围内的光 在制品-空气界面区域的光反射。反光涂层具有相反的效果，即它是增加光线反射。这种类型涂层例如 用于提供具有镜面效果的太阳镜。抗反射涂层是公知的，并且通常包括介电材料的单层或多层堆叠，所述介电材料例如为SiO、 Si02、 A1203、 MgF2、 LiF、 Si3N4、 Ti02、 Zr02、 Nb2Os、 Y203、 Hf02、 Sc203、 Ta2Os、 ？1"203或其混合物。还公知抗反射涂层优选是包含交替的高折射率层和低折射率层的多层 涂层。反光涂层由本质上与抗反射涂层相同的层制成，不同的是选择层的折 射率值，数量和厚度使涂层反光，这是本领域熟练技术人员熟知的。即使以下描述是对抗反射涂层而言，但其对于反光涂层同样适用。但 是，本专利技术优选涉及抗反射涂层。已知在基底与抗反射涂层的高折射率层和低折射率层之间插入相对厚 的底层以改善所述涂层的耐磨性和/或耐刮性。但是，已观察到插入这种底层在增加耐磨性的同时可能会减弱抗反射 叠层并影响它与基底的粘附。特别是在底层/抗反射光学叠层界面已发现某 些缺陷。本申请人的专利申请WO 2005/059603描述了包含多层着色抗反射涂 层的制品，该涂层包含至少2层在可见光区域吸收并基于亚化学计量的钛 氧化物TiOx (x < 2)的高折射率层和优选至少一层基于掺有入1203的Si02 的低折射率层(LI),其中A1203的量相对A1203 + Si02总重为1 - 5重量％ 。该文献更特别描述了依次涂覆有100-110 nm厚的二氧化硅底层、 TiOx层、SKVAl203层、TiOx层、Si02/Al20j、 TiOx层、Si02/Al2034 和防污涂层的基底。在沉积抗反射涂层之前，处理基底表面以增加底层的粘附。该表面处 理，即所谓的IPC(离子预清洗)包括通过用离子枪^f吏氩离子轰击基底而进 行离子预清洗。对于底层没有进行表面处理。根据专利申请WO 2005/059603的教导制造的光学制品具有良好的粘 附性和耐磨性，但可能仍然需要改进。因此本专利技术的目的是提供一种制造包含由无机或有机玻璃制成的基底 和提供有底层的抗反射涂层的透明光学制品，特别是眼用透镜的方法，与 现有技术光学制品相比，其有利地具有改进的耐磨性和粘附性。这种新型方法应当容易地与常规光学制品制造方法整合，并应当优选 避免任何对基底的加热。制备的光学制品必须保留优异的透明性，它们必须具有良好的抵抗热 水浸渍处理以及随后的表面机械应力的能力，应没有任何光学缺陷。本专利技术的另 一个目的是提供一种制造另外具有抗静电性的这种光学制 品 的方法。本专利技术尤其被认为解决了抗反射叠层与基底粘附困难的问题，确保解 决该问题的同时增加了所述涂层的耐磨性的光学制品的方法，所述方法包括至少以下步骤-提供包含具有至少一个主表面的基底的光学制品；-在该基底主表面上沉积具有暴露表面的底层；-在底层的所述暴露表面上沉积包含至少一层高折射率层和至少一层 低折射率层的多层抗反射叠层；-获得包含具有主表面的基底的光学制品，所述主表面涂覆有包含所 述底层和所述多层叠层的抗反射涂层，其中所述底层的暴露表面在沉积所述多层叠层之前已进行离子轰击处理。当光学制品在其表面包含一层或多层涂层时，本申请中所使用的短语 "在制品上沉积层或涂层"指的是层或涂层沉积在制品外涂层未受保护(暴 露)的表面上。本文所使用的"制品外涂层"指的是离基底最远的涂层。 在本文中，提到涂层在所述基底"上"或沉积在基底"上"时，是指 这样的涂层(i)位于基底上方，(ii)不必与基底接触，即在基底和所述涂层 之间可能有一层或多层中间涂层，和(iii)不必完全覆盖基底，但是优选全部 覆盖。本文所使用的当"层1位于层2下方"时，指的是层2比层1距离基 底远。本文所使用的"多层抗反射叠层"指的是沉积在抗反射涂层底层上的 抗反射涂层的多层叠层。在以下的描述中，它将简称为"多层叠层"。根据本专利技术制备的光学制品包含基底，优选透明基底，由有机或无机 玻璃制成，具有主前面和主后面，其中所述主面中的至少一个(优选两个主 面均)提供有抗反射涂层，所述抗反射涂层具有被多层叠层覆盖的内涂层。 另外优选该多层叠层与所述底层直接接触。一般而言，本专利技术光学制品的抗>^射涂层的所述底层和多层叠层可以 沉积在任何基底上，优选沉积在有机玻璃基底如热塑性或热固性材料上。可适用于该基底的热塑性材料包括(甲基)丙烯酸类(共)聚合物，尤其 是聚(曱基丙烯酸甲酯)(PMMA)、硫代(甲基)丙烯酸类(共)聚合物、聚乙晞基缩丁醛(PVB)、聚碳酸酯(PC)、聚氨酯(PU)、聚(石克氨酯)、多元醇烯丙基 碳酸酯(共)聚合物、乙烯和乙酸乙烯酯的热塑性共聚物、聚酯如聚对苯二 甲酸乙二酯(PET)或聚对苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚环石克化物、聚环氧化物、 聚碳酸酯和聚酯的共聚物、环烯烃共聚物如乙烯和降冰片烯共聚物或乙烯 和环戊二烯共聚物，以及它们的组合。本文所使用的"(共)聚合物"指的是共聚物或聚合物，(甲基)丙烯酸酯 为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。本专利技术优选的基底包括例如通过聚合以下物质获得的基底(甲基)丙烯酸烷基酯，尤其是(甲基)丙烯酸C广C4烷基酯如(甲基)丙烯酸甲酯和(甲基)丙烯酸乙酯，聚乙氧基化芳族(甲基)丙烯酸酯如聚乙氧基化双酚二(甲基) 丙烯酸酯，烯丙基f;f生物如脂族或芳族、线性或支化多元醇烯丙基碳酸酯、 硫代(甲基)丙烯酸酯、环硫化物，以及多元硫醇和多异氰酸酯的前体混合 物(用于获得聚硫氨酯)。本文所使用的"聚碳酸酯"(PC)指的是均聚碳酸酯和共聚碳酸酯及嵌 段共聚碳酸酯。聚碳酸酯例如由GENERAL ELECTRIC COMPANY以商 品名LEXAN⑧市售、由TEIJIN以商品名PANLITE⑧市售、由BAYER以 商品名BAYBLEND③市售、由MOBAY CHEMICHAL Corp.以商品名 MAKROLON⑧市售，以及由DOW CHEMICAL Co.以商品名CALIBRE 市售。合适的多元醇烯丙基碳酸酯(共)聚合物的实例包括乙二醇双(烯丙基 碳酸酯)的共聚物、二甘醇双2-甲基碳酸酯的共聚物、二甘醇双(烯丙基碳 酸酯)的共聚物、乙二醇双(2-氯烯丙基碳酸酯)的共聚物、三甘醇双(烯丙基 碳酸酯)的共聚物、1，3-丙二醇双(烯丙基碳酸酯)的共聚物、丙二醇双(2-乙 基烯丙基碳酸酯)的共聚物、1，3-丁二醇双(烯丙基碳酸酯)的共聚物、1，4-丁 二醇双(2-溴烯丙基碳酸酯)的共聚物、二丙二醇双(烯丙基碳酸酯)的共聚 物、三亚甲基二醇双(2-乙基烯丙基碳酸西旨)的共聚物、五亚甲基二醇双(烯本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种制造具有抗反射性或反光性的光学制品的方法，包括至少以下步骤： －提供包含具有至少一个主表面的基底的光学制品； －在所述基底的主表面上沉积具有暴露表面的底层； －在底层的所述暴露表面上沉积包含至少一层高折射率层和至少一层 低折射率层的多层抗反射或反光叠层， －获得包含具有主表面的基底的光学制品，所述主表面涂覆有包含所述底层和所述多层叠层的抗反射或反光涂层， 其中所述底层的暴露表面在沉积所述多层叠层之前进行离子轰击处理，并且其中底层的沉积在真空室中 进行，在所述沉积过程中向真空室中供应气体。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：P鲁瓦松，M托马斯，
申请(专利权)人：埃西勒国际通用光学公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]
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