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本发明涉及一种钕铁硼叠加磁粘接工艺,包括绝缘防腐沉积涂层制备及磁体沉积、磁体粘合胶剂制备与点胶、定位压合、除胶、固化与错误产品返工的工艺步骤;通过绝缘防腐涂层沉积,在涂层较薄的前提下,使磁体绝缘电阻达到≥1MΩ;通过胶合剂的原料制备工艺与厚...该专利属于浙江鑫盛永磁科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江鑫盛永磁科技股份有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种钕铁硼叠加磁粘接工艺,包括绝缘防腐沉积涂层制备及磁体沉积、磁体粘合胶剂制备与点胶、定位压合、除胶、固化与错误产品返工的工艺步骤;通过绝缘防腐涂层沉积,在涂层较薄的前提下,使磁体绝缘电阻达到≥1MΩ;通过胶合剂的原料制备工艺与厚...