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本技术是半导体厂房用无AMC挥发的围篱，其结构包括若干个立杆，立杆靠近顶端处开有长条孔，立杆的长条孔内穿设有警示带，立杆设置在高架地板上，立杆环绕需要环绕的对象周围，立杆的长条孔内穿设有警示带，警示带环绕需要环绕的对象设置。本技术的优点：优...
该专利属于中国电子系统工程第二建设有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子系统工程第二建设有限公司授权不得商用。

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