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本技术涉及磁控溅射技术领域，具体为磁控溅射用靶材中心防污染阳极，包括阳极本体,所述阳极本体内设置有靶材，所述靶材的上侧设置有刻蚀区，所述阳极本体上设置有中心阳极，所述中心阳极的两端固定连接有连接管，所述连接管的一端设置在阳极本体上；安装机构...
该专利属于长沙元戎科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长沙元戎科技有限责任公司授权不得商用。

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