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一种在SiO2/Si上制备出局部相嵌于SiO2/Si内部的PdTe2量子点方法技术
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本发明提供了一种在SiO<subgt;2</subgt;/Si上制备出局部相嵌于SiO<subgt;2</subgt;/Si内部的PdTe<subgt;2</subgt;量子点方法,制备方法包括:(a)首...
该专利属于闽南师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过闽南师范大学授权不得商用。
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