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本公开提供了一种改善外延晶圆品质的方法、装置，及外延晶圆和其制造方法。该改善外延晶圆品质的方法包括：将外延晶圆的表面缺陷的位置与外延工艺设备中的接触部件的接触位置进行匹配，获得与接触部件的接触位置相匹配的第一表面缺陷；获取第一表面缺陷的形貌...
该专利属于西安奕斯伟材料科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟材料科技股份有限公司授权不得商用。

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