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该创新反应器用于在衬底上外延沉积半导体材料，并且包括：反应室(210)，其沿着纵向方向(L)延伸；滑架(220)，其适于支撑反应室(210)或反应室的一部分，以及管(230)，其沿着纵向方向(L)延伸，并且适于容纳反应室(210)和支撑反应...
该专利属于LPE公司所有，仅供学习研究参考，未经过LPE公司授权不得商用。

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