温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本技术提供板式加热器以及沉积腔。所述板式加热器包括基座、依次叠置在所述基座上的加热件以及用于将所述加热件产生的热量辐射出去的辐射模块,所述辐射模块包括多个辐射罩,所述基座上设置有多根导轨,每个辐射罩的反面设置有与相应导轨相匹配的结合部,其罩...该专利属于理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本技术提供板式加热器以及沉积腔。所述板式加热器包括基座、依次叠置在所述基座上的加热件以及用于将所述加热件产生的热量辐射出去的辐射模块,所述辐射模块包括多个辐射罩,所述基座上设置有多根导轨,每个辐射罩的反面设置有与相应导轨相匹配的结合部,其罩...