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本申请提供一种辐射检查系统，其包括扫描装置，扫描装置包括辐射装置和探测装置，辐射装置和探测装置相互配合，对被检对象进行扫描，辐射装置位于被检对象的一侧，并包括至少两个辐射源，辐射装置的至少两个辐射源沿第一方向排布，并均包括沿第二方向间隔布置...
该专利属于同方威视技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过同方威视技术股份有限公司授权不得商用。

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