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一种铁电场效应晶体管阵列的写入方法技术
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文档序号:44598511
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本发明公开一种铁电场效应晶体管阵列的写入方法,属于微纳电子学技术领域。本发明方法针对1T结构的多级存储铁电场效应晶体管阵列,提出自补偿写入方法,采用自补偿波形的脉冲序列进行写入,分别对应多级存储中不同的存储状态,高于中间存储状态采用正脉冲写...
该专利属于北京大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京大学授权不得商用。
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