温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请涉及等离子体镀膜技术领域，具体提供了一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备，该喷头包括：喷头本体，其具有等离子激发仓和反应仓；前驱体喷出管，位于反应仓内，其底部的高度小于进气口的高度；第一螺旋气流引导结构，其包括第一圆环安...
该专利属于佛山市屹博电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过佛山市屹博电子科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。