【技术实现步骤摘要】
本申请涉及等离子体镀膜，具体而言，涉及一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备。
技术介绍
1、大气压等离子体镀膜工艺被广泛应用在汽车制造和材料表面性能提升等领域中，大气压等离子体镀膜工艺需要在等离子体射流喷头的反应仓内利用等离子体活化和激发雾化的前驱体材料（由气体和微小液滴组成），以使雾化的前驱体材料在基体表面发生化学反应，从而在基体表面镀上一层薄膜。由于在雾化的前驱体材料的传播过程中，部分微小液滴可能会凝聚超过微米级的小液滴，甚至形成大液滴，而在前驱体材料中存在超过微米级的小液滴和/或大液滴时，等离子体对前驱体材料的活化和激发效果有限，因此相关技术存在由于部分微小液滴凝聚成超过成微米级的小液滴和/或大液滴而导致前驱体材料在基体表面反应不充分和最终形成的薄膜的交联度低的问题，从而导致大气压等离子体镀膜工艺的成膜质量差。
2、针对上述问题，目前尚未有有效的技术解决方案。需要说明的是，本部分中公开的以上信息仅用于理解本专利技术构思的背景，因此可以包含不构成现有技术的信息。
技术实现思路b>
1本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种等离子体射流喷头，其特征在于，所述等离子体射流喷头包括：
2.根据权利要求1所述的等离子体射流喷头，其特征在于，所述等离子体射流喷头还包括第二螺旋气流引导结构，所述第二螺旋气流引导结构安装在喷头本体上且位于等离子激发仓的输入端，所述第二螺旋气流引导结构包括第二圆环安装板和多个倾斜通孔，所述第二圆环安装板的中心安装有电离组件，多个所述倾斜通孔圆周阵列在所述第二圆环安装板上，所述倾斜通孔的输入端与气体供应组件连通，多个所述倾斜通孔的输出端均位于所述等离子激发仓内。
3.根据权利要求2所述的等离子体射流喷头，其特征在于，所述倾斜通孔的数量为6
<...【技术特征摘要】
1.一种等离子体射流喷头，其特征在于，所述等离子体射流喷头包括：
2.根据权利要求1所述的等离子体射流喷头，其特征在于，所述等离子体射流喷头还包括第二螺旋气流引导结构，所述第二螺旋气流引导结构安装在喷头本体上且位于等离子激发仓的输入端，所述第二螺旋气流引导结构包括第二圆环安装板和多个倾斜通孔，所述第二圆环安装板的中心安装有电离组件，多个所述倾斜通孔圆周阵列在所述第二圆环安装板上，所述倾斜通孔的输入端与气体供应组件连通，多个所述倾斜通孔的输出端均位于所述等离子激发仓内。
3.根据权利要求2所述的等离子体射流喷头，其特征在于，所述倾斜通孔的数量为6-10个。
4.根据权利要求2所述的等离子体射流喷头，其特征在于，所述第二圆环安装板的外侧壁设有第一限位块，所述第一限位块能与所述喷头本体抵触。
5.根据权利要求1所述的等离子体射流喷头，...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙鹏，詹同道，
申请(专利权)人：佛山市屹博电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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