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本发明涉及用于电化学设备的隔膜处理装置及溅射靶。本发明提供了一种用于电化学设备的隔膜处理装置，该隔膜处理装置包括：真空室；基座，其设置在该真空室中并且被配置为允许隔膜安放在该基座上；以及溅射靶，其设置在该真空室上并且包括靶元件和发光元件，这...
该专利属于现代自动车株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过现代自动车株式会社授权不得商用。

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