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本申请提供一种旋转镀膜装置及其控制方法，涉及控制技术领域。在本申请中，至少一条气路分别与反应腔室的内腔体连通；其中，每条气路在沿着气路至内腔体的方向上依次设置气体供给设备、MFC和反应源供给设备，MFC用于控制气体供给设备提供的惰性气体的气...
该专利属于青岛四方思锐智能技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛四方思锐智能技术有限公司授权不得商用。

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