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本申请涉及半导体制造技术领域，公开一种基材处理系统，包括反应腔，在反应腔的腔壁上设置有进气口和出气口，进气口位于待清洁区域的侧方，基材处理系统还包括输气结构和抽气结构。输气结构，包括可切换输气的第一输气端和第二输气端；其中，第一输气端用于与...
该专利属于江苏微导纳米科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏微导纳米科技股份有限公司授权不得商用。

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