温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本技术公开了一种用于沉积工艺的导流块、上盖板结构和沉积设备。导流块包括：第一导流部，包括上窄下宽的梯形圆柱体，用于使从上端接收的工艺气体沿所述梯形圆柱体的斜面向下导流；以及第二导流部，设于所述第一导流部之下，并包括向所述导流块的中心延伸的向...
该专利属于拓荆科技(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技(上海)有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。