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本技术涉及半导体制造设备技术领域，更具体的说，涉及一种抽气环组件及半导体反应腔体。本技术提供了一种抽气环组件，至少包含一个抽气环与一个限制环：所述抽气环，设置在腔室侧部，用于将腔室内的气体抽出；所述抽气环，侧面开设有若干抽气孔；所述限制环，...
该专利属于拓荆科技(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技(上海)有限公司授权不得商用。

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