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本发明提出了一种基于交替投影算法的全息光刻掩模设计方法，提高了全息光刻分辨率。本方法采用像素表征掩模，结合掩模制造约束条件对掩模对应的振幅矩阵和相位矩阵进行有限级数离散化。为避免优化过程中陷入停滞，采用逐步离散化策略。通过光刻胶轮廓与目标图...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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