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本发明提供状态判断方法、基片处理装置和程序，能够高精度地判断基片脱离时的基片的晃动状态。基片处理装置中的状态判断方法包括：拍摄动态图像的步骤，动态图像包含从基片因静电吸附而被保持的第一状态，至基片的静电吸附被解除、在除静电处理后基片利用升降...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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