温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及双重扫描式离子植入系统。依据本发明一个实施例的双重扫描式离子植入系统包括：处理腔，进行离子束扫描；第一及第二扫描机器人，配置在所述处理腔内部；及，设备前端模块(EFEM)，设于所述处理腔一侧，安装复数个晶片盒；处理腔内部的第一及第...
该专利属于耐贝尔株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过耐贝尔株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。