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本发明提供一种空间型ALD镀膜装置、镀膜方法和复合膜。空间型ALD镀膜装置包括：镀膜腔体包括依次连接的至少一组反应区域，且相邻反应区域之间通过气帘进行隔离；每组反应区域均由通过气帘进行分隔的前驱体反应区域和共反应物反应区域组成；进气组件包括...
该专利属于光驰半导体技术（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰半导体技术（上海）有限公司授权不得商用。

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