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本申请属于光刻胶材料技术领域，具体涉及一种耐刻蚀的ArF光刻胶及其制备方法。一种耐刻蚀的ArF光刻胶，包括以下重量份的原料：成膜树脂90‑100份、光致产酸剂5‑15份、有机碱0.5‑2份，耐刻蚀添加剂3‑10份，以及光刻胶溶剂3000‑5...该专利属于瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司授权不得商用。
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本申请属于光刻胶材料技术领域，具体涉及一种耐刻蚀的ArF光刻胶及其制备方法。一种耐刻蚀的ArF光刻胶，包括以下重量份的原料：成膜树脂90‑100份、光致产酸剂5‑15份、有机碱0.5‑2份，耐刻蚀添加剂3‑10份，以及光刻胶溶剂3000‑5...