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本公开涉及化学气相沉积制备技术领域，尤其是涉及一种加热装置、CVD设备及方法。加热装置包括线圈组件、石墨盘和导热垫片，线圈组件包括线圈和供电装置，线圈用于设置在CVD设备的腔室的周向外表面，供电装置用于向线圈供电，以使腔室内产生磁场；石墨盘...
该专利属于北京石墨烯研究院所有，仅供学习研究参考，未经过北京石墨烯研究院授权不得商用。

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