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提供能用于各种领域、且能量产的新型的覆盖基材。覆盖基材(1)是由覆膜(3)覆盖基材(5)而成的。覆膜(3)的厚度为1nm以上且低于800nm。用X射线光电子能谱法测定覆膜(3)时，C(碳)的元素百分率为0.1atm％以上且低于20atm％，...
该专利属于日本特殊陶业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本特殊陶业株式会社授权不得商用。

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