温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本公开涉及光伏技术领域,具体涉及一种断面钝化料盒以及断面钝化设备,解决了现有的工艺料盒应用于硅片断面的钝化工艺处理时,容易导致已处理过的表面再次钝化的问题。本公开的断面钝化料盒包括:盒体组件、盒盖组件和挡板。在进行钝化工艺时,钝化气体从挡板...该专利属于拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本公开涉及光伏技术领域,具体涉及一种断面钝化料盒以及断面钝化设备,解决了现有的工艺料盒应用于硅片断面的钝化工艺处理时,容易导致已处理过的表面再次钝化的问题。本公开的断面钝化料盒包括:盒体组件、盒盖组件和挡板。在进行钝化工艺时,钝化气体从挡板...