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本发明公开了一种含浸设备及其含浸方法包括架体、第一上料机构和含浸机构，架体设有第一工位和第二工位；第一上料机构相对于架体滑动设置；含浸机构包括至少两个含浸缸，含浸缸与架体滑动连接，含浸缸可选择性地滑动至第一工位或者第二工位，第一上料机构设置...
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