【技术实现步骤摘要】
本专利技术实施例涉及含浸装置，特别涉及一种含浸设备及其含浸方法。
技术介绍
1、在电容件生产过程中，电容件进行含浸可以增强绝缘性能，含浸剂可以填充电容件内部的微小空隙，减少空气等不良绝缘介质的存在，从而大大提高电容件的绝缘电阻，因此含浸机是不可或缺的一款设备。
2、现有技术中的含浸机结构复杂，结构利用率低，多组含浸缸占地空间大，且设备使用成本高，生产效率低，影响电容件的生产质量。
技术实现思路
1、鉴于现有技术存在的不足，本专利技术提供了一种含浸设备及其含浸方法，可以缩小结构体积，提高生产质量。
2、为了实现上述的目的，本专利技术采用了如下的技术方案：
3、一种含浸设备，包括架体、第一上料机构和含浸机构，架体设有第一工位和第二工位；第一上料机构相对于所述架体滑动设置；含浸机构包括至少两个含浸缸，所述含浸缸与所述架体滑动连接，所述含浸缸可选择性地滑动至所述第一工位或者所述第二工位，所述第一上料机构设置于所述第二工位上方，用于对位于所述第二工位的所述含浸缸进...
【技术保护点】
1.一种含浸设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的含浸设备，其特征在于，所述含浸设备包括第一导轨(8)，所述第一导轨(8)设置于所述架体(1)上；所述第一上料机构(4)与所述第一导轨(8)滑动连接，多个所述含浸缸(51)分别设置在所述第一导轨(8)的相对两侧，所述第二工位(12)设置于所述第一导轨(8)的下方，且每个所述第二工位(12)的两侧分别设置有至少一个所述第一工位(11)。
3.根据权利要求2所述的含浸设备，其特征在于，所述含浸设备包括保护机构(7)，所述保护机构(7)移动设置于所述架体(1)；当所述含浸缸(51)位于所述第...
【技术特征摘要】
1.一种含浸设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的含浸设备，其特征在于，所述含浸设备包括第一导轨(8)，所述第一导轨(8)设置于所述架体(1)上；所述第一上料机构(4)与所述第一导轨(8)滑动连接，多个所述含浸缸(51)分别设置在所述第一导轨(8)的相对两侧，所述第二工位(12)设置于所述第一导轨(8)的下方，且每个所述第二工位(12)的两侧分别设置有至少一个所述第一工位(11)。
3.根据权利要求2所述的含浸设备，其特征在于，所述含浸设备包括保护机构(7)，所述保护机构(7)移动设置于所述架体(1)；当所述含浸缸(51)位于所述第二工位(12)时，且所述第一上料机构(4)将物料分批移出的间隔时段，所述保护机构(7)盖设于所述含浸缸(51)。
4.根据权利要求1所述的含浸设备，其特征在于，所述含浸缸(51)包括缸体(511)、滚架(512)和第一弹性件(513)，所述滚架(512)转动设置于所述缸体(511)内，所述滚架(512)沿其周向设有多个夹持件(514)，相邻两个所述夹持件(514)之间设有所述第一弹性件(513)；
5.根据权利要求4所述的含浸设备，其特征在于，所述含浸机构(5)包括顶开组件(52)，所述顶开组件(52)包括第一驱动件(521)和顶开件(522)，所述第一夹持片(5141)和所述第二夹持片(5142)均与所述滚架(512)转动连接，所述第一驱动件(521)的驱动端与所述顶开件(522)连接，并推动所述顶开件(522)插入至所述第一夹持片(5141)和所述第二夹持片(5142)之间，以分离所述第一夹持片(5141)和所述第二夹持片(5142)。
6.根据权利要求1所述的含浸设备，其特征在于，所述含浸机构(5)包括含浸盖板(53)、锁紧组件(54)和第二驱动件(55)，所述含浸盖板(53)设置于所述含浸缸(51)的上方，所述第二驱动件(55)的驱动端与所述含浸盖板(53)连接，所述锁紧组件(54)连接于所述含浸盖板(53)，所述含浸缸(51)设有锁紧部(515)；所述第二驱动件(55)驱动所述含浸盖板(53)盖设于所述含浸缸(51)，且所述锁紧组件(54)与...
【专利技术属性】
技术研发人员：李剑，呙德红，谭国彪，刘云，
申请(专利权)人：深圳市池岗精机科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。