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本发明提供了一种等离子体射流离子源、制备方法及应用，该等离子体射流离子源，包括：安装体，安装体为一体成型，安装体具有金属容纳腔、正极安装位、第一注入孔和载气流道；金属容纳腔为环状结构，位于安装体内形成负极安装位，与正极安装位相对设置，且二者...
该专利属于桂林电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过桂林电子科技大学授权不得商用。

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