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本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法、半导体装置的制造方法及记录介质，提供能够抑制热扩散的技术。基板处理装置具备：处理室，其对形成有添加了掺杂剂的第一膜和与所述第一膜不同的第二膜的基板进行处理；电磁波供给部，其向所述基板供给电磁波；以及...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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