温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本技术涉及ALD设备技术领域,具体为一种应用于多反应腔室的特气系统,包括:主源瓶,所述主源瓶连接有用于通入前驱体化学品的进液管道、用于通入携源气体的第一进气管道以及用于向各反应腔室出气的第一出气管道,所述主源瓶的外壁设置有加热装置;多个缓存...该专利属于艾华(无锡)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过艾华(无锡)半导体科技有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本技术涉及ALD设备技术领域,具体为一种应用于多反应腔室的特气系统,包括:主源瓶,所述主源瓶连接有用于通入前驱体化学品的进液管道、用于通入携源气体的第一进气管道以及用于向各反应腔室出气的第一出气管道,所述主源瓶的外壁设置有加热装置;多个缓存...