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本技术提供一种清洁基站、子机器人和清洁系统，清洁基站包括：基站主体、容纳腔、第一充电极片、第二充电极片和至少两个第一定位装置。容纳腔具有开口；至少两个第一定位装置设置于容纳腔的壁体上；第一充电极片设置于容纳腔的壁体上，包括第一正极极片和第一...
该专利属于追觅创新科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过追觅创新科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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