温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请提供光学邻近预修正方法、装置、介质、程序产品及终端，通过获取一层或多层待修正版图，提取对应的图形参数和锚点参数，并对每层有桥接风险的周期性图形中的图形元素进行预修正，以生成预修正版图。本申请有效避免桥接现象，确保晶圆图案的完整性及电路...
该专利属于华芯程（杭州）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯程（杭州）科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。