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本发明涉及真空镀膜技术领域，具体公开了真空镀膜方法及真空镀膜设备。该方法包括以下步骤：向镀膜室内的蒸发源主体添加物料；将基板治具定位于镀膜室内；将位于预熔位的蒸发源主体内的物料加热至预熔温度，将位于蒸发位的蒸发源主体内的物料加热至蒸发温度；...
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