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本发明涉及蚀刻液技术领域，尤其涉及IPC C23F领域，更具体的，涉及一种双剂型铜钼钛蚀刻液及其制备方法。包括主剂和辅剂，按重量份计，所述主剂的组分包括：氧化剂8‑15份、第一有机酸4‑13份、第一无机酸1‑3份、第一有机碱1‑3份、第一表...该专利属于四川和晟达电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川和晟达电子科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及蚀刻液技术领域，尤其涉及IPC C23F领域，更具体的，涉及一种双剂型铜钼钛蚀刻液及其制备方法。包括主剂和辅剂，按重量份计，所述主剂的组分包括：氧化剂8‑15份、第一有机酸4‑13份、第一无机酸1‑3份、第一有机碱1‑3份、第一表...