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本发明涉及模型优化领域，公开了一种优化光刻胶模型一致性的方法、装置、电子设备、存储介质，包括步骤S11：当对光刻胶模型中的模拟项参数进行当前代搜索和仿真后，对与光刻胶模型对应的测试图形进行移位；步骤S12：确定在测试图形移位后与预设采样点处...
该专利属于华芯程（杭州）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯程（杭州）科技有限公司授权不得商用。

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