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本发明提供一种对准系统、成膜装置、对准方法、成膜方法以及电子器件的制造方法。对准系统用于调整基板与掩模的相对位置，其特征在于，包括：静电卡盘，所述静电卡盘用于吸附所述基板；分离状态检测机构，所述分离状态检测机构用于检测所述掩模与由所述静电卡...
该专利属于佳能特机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过佳能特机株式会社授权不得商用。

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