【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及对准系统、成膜装置、对准方法、成膜方法以及电子器件的制造方法。
技术介绍
1、在有机el显示装置(有机el显示器)的制造中，在对构成有机el显示装置的有机发光元件(有机el元件；oled)进行形成时，使从成膜装置的蒸镀源蒸发的蒸镀材料经由形成有像素图案的掩模向基板蒸镀，由此形成有机物层或金属层。
2、在向上蒸镀方式(向上沉积)的成膜装置中，蒸镀源设置在成膜装置的真空容器的下部，基板配置在真空容器的上部，向基板的下表面蒸镀。在这样的向上蒸镀方式的成膜装置的真空容器内，基板由于仅其下表面的周边部由基板支架保持，因此基板因其自重而挠曲，这成为使蒸镀精度下降的一个主要原因。即使在向上蒸镀方式以外的方式的成膜装置中，也有可能产生由基板的自重引起的挠曲。
3、作为用于减少由基板的自重引起的挠曲的方法，正在研讨使用静电卡盘的技术。即，利用静电卡盘将基板的上表面遍及其整体地吸附，由此能够减少基板的挠曲。
4、在专利文献1(韩国专利公开公报2007-0010723号)中，提出了利用静电卡盘来吸附基板及掩模
【技术保护点】
1.一种对准系统，所述对准系统用于调整基板与掩模的相对位置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的对准系统，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的对准系统，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的对准系统，其特征在于，
8.根据权利要求6所述的对准系统，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的对准系统，其特征在于，
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【技术特征摘要】
1.一种对准系统，所述对准系统用于调整基板与掩模的相对位置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的对准系统，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的对准系统，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的对准系统，其特征在于，
8.根据权利要求6所述的对准系统，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的对准系统，其特征在于，
10.一种成膜装置，所述成膜装置用于将蒸镀材料经由掩模向基板成膜，其特征在于，包括权利要求1～9中任一项所述的对准系统。
11.一种对准方法，所述对准方法用于调整基板与掩模的相对位置，其特征在于，包括：
12.根...
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