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高电子迁移率晶体管及半导体装置制造方法及图纸
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文档序号:43858272
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本高电子迁移率晶体管包括:沟道层,载流子流经该沟道层;一对主电极,分别连接至沟道层的一端和另一端;阻挡层,设置到沟道层并且诱导载流子;栅电极,设置到沟道层的中间部分,其中,阻挡层介于栅电极与沟道层之间;第一间隔层,设置在沟道层与阻挡层之间并...
该专利属于索尼半导体解决方案公司所有,仅供学习研究参考,未经过索尼半导体解决方案公司授权不得商用。
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