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电磁波屏蔽薄膜制造技术
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文档序号:43831405
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提供保护层的表面的遮盖性和耐划痕性这两者充分高的电磁波屏蔽薄膜。本发明的电磁波屏蔽薄膜的特征在于,具备:具有第1主面和与上述第1主面对置的第2主面的保护层;和,配置于上述保护层的第2主面的屏蔽层,上述第1主面的界面的扩展面积比Sdr为75....
该专利属于拓自达电线株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过拓自达电线株式会社授权不得商用。
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