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本申请提供一种线圈结构、MEMS器件及线圈结构的制备方法，所述线圈结构包括衬底和设在所述衬底上的线圈。所述衬底的一侧表面开设有向内凹陷的凹槽，所述凹槽的轨迹由所述衬底表面的中心呈螺旋状向所述衬底的外周延伸，所述衬底设有所述凹槽一侧的表面设有...
该专利属于烟台齐新半导体技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过烟台齐新半导体技术研究院有限公司授权不得商用。

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