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本发明涉及集成电路生产领域，特别是涉及一种基于图形RC值的光学邻近效应修正再定位方法及装置，通过接收原始GDSII文件；计算所述原始GDSII文件中各个所述待检电路组件的原始RC值；对所述原始GDSII文件进行光学邻近效应修正再定位，得到变...
该专利属于华芯程（杭州）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯程（杭州）科技有限公司授权不得商用。

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