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本发明涉及一种增加光罩耐洗度的方法，其在曝光显影制程以及去光阻制程结束都分别增加了一道氧等离子处理制程，以在图形表面形成氧化保护层，将原本键能较低的MoO<subgt;2</subgt;置换为键能较高的MoO<subgt;...
该专利属于厦门美日丰创光罩有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门美日丰创光罩有限公司授权不得商用。

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