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本发明公开沉积成膜中电极组件绝缘异常的处理方法及沉积成膜设备，其中，该处理方法包括异常处理步骤，所述异常处理步骤包括：控制载具进入反应腔，并连接所述载具和射频电源；向所述反应腔中通入第一工艺气体；控制启动所述射频电源，并对所述第一工艺气体进...
该专利属于江苏微导纳米科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏微导纳米科技股份有限公司授权不得商用。

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