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本发明提供一种失效分析样品处理方法以及失效分析方法，失效分析样品处理方法包括：将测试样品去层至第一金属层，保留完整的测试结构；将测试样品接地，导走第一金属层表面的电荷；对测试样品的失效位置进行预定位；将测试样品研磨至第二金属层的上方，并在测...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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