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文档序号:43587401
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本申请提供了一种晶体管,该晶体管的源极接触掺杂区和漏极接触掺杂区之间设置有p型阱区和n型漂移区,该p型阱区和晶体管的栅极分别位于晶体管的金属氧化物层的两侧,且p型阱区与金属氧化物层的第一面的第一区域接触,栅极与金属氧化物层的第二面的第二区域...
该专利属于华为技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华为技术有限公司授权不得商用。
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